獵戶座3100系統(tǒng)：完善的空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)空氣分子污染（AMC ）對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程極為重要。

快速監(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測(cè)量，當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng) 時(shí)，將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

傳統(tǒng)古老的方法多采用間接測(cè)量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學(xué)熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過程太復(fù)雜，昂貴并且測(cè)量結(jié)果不精確。

空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

CEAS （腔增強(qiáng)吸收光譜）---原理

基于CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)的儀器原理圖，使用近紅外波段光進(jìn)行高靈敏度吸收測(cè)量，測(cè)量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構(gòu)成，激光束經(jīng)過固態(tài)校準(zhǔn)器（FSR=2.00GHz）時(shí)會(huì)測(cè)量得到相對(duì)激光波長(zhǎng)。為了保證清晰度，忽略了原本照射到左側(cè)測(cè)量單元腔鏡外的光束。